近日，六安欣奕華電子材料生產(chǎn)基地及創(chuàng)新中心項目在六安市葉集區(qū)投產(chǎn)。
據(jù)介紹，該項目計劃總投資12億元，項目投產(chǎn)后將形成年產(chǎn)顯示光刻膠1萬噸、半導(dǎo)體光刻膠600噸的產(chǎn)能。根據(jù)此前公告，本項目占地面積97.75 畝，將建設(shè)光刻膠車間、危廢庫、乙類倉庫、丙類倉庫、罐區(qū)、控制室、動力中心、消防泵站、消防水池、廢氣處理、污水處理設(shè)施等其他生產(chǎn)及輔助設(shè)施、綜合樓、創(chuàng)新中心等。
半導(dǎo)體光刻膠主要應(yīng)用于集成電路制造，其追求的是極高的分辨率、精密的線寬控制及復(fù)雜的工藝適配性。隨著芯片制程不斷微縮至納米級別，半導(dǎo)體光刻膠需與極紫外等先進光刻技術(shù)緊密配合，對雜質(zhì)含量、感度、線邊緣粗糙度等指標有著近乎苛刻的要求，技術(shù)壁壘極高。
顯示光刻膠則主要用于平板顯示產(chǎn)業(yè)，在彩色濾光片、電極間隙等環(huán)節(jié)形成精細圖案。其更側(cè)重于優(yōu)異的透過率、色彩飽和度、高對比度以及在大面積基板上的涂布均勻性。雖然線寬要求通常比尖端半導(dǎo)體寬松，但需滿足高生產(chǎn)效率和良好的視覺效果。
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