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行業(yè)資訊

國(guó)內(nèi)又一家企業(yè)實(shí)現(xiàn)KrF光刻膠批量化生產(chǎn): 發(fā)布日期：2022-12-12

12月7日，上海新陽(yáng)半導(dǎo)體材料股份有限公司在互動(dòng)平臺(tái)回答投資者提問(wèn)時(shí)表示：KrF光刻膠已批量化生產(chǎn)銷(xiāo)售。此前9月份，上海新陽(yáng)公司表示ArF光刻膠尚處于驗(yàn)證階段。另外，上海新陽(yáng)還表示，合肥新陽(yáng)項(xiàng)目尚未投產(chǎn)，部分設(shè)備已進(jìn)場(chǎng)。

上海新陽(yáng)產(chǎn)能

上海新陽(yáng)主營(yíng)晶圓超純化學(xué)材料產(chǎn)品，也就是光刻膠。歷經(jīng)二十余年發(fā)展，已經(jīng)擁有完整自主可控知識(shí)產(chǎn)權(quán)的電子電鍍和電子清洗兩大核心技術(shù)，電子光刻及電子研磨核心技術(shù)正在形成。

公司聚焦于集成電路關(guān)鍵工藝材料業(yè)務(wù)，已建設(shè)上海廠區(qū)產(chǎn)能1.9萬(wàn)噸/年，合肥第二生產(chǎn)基地一期1.7萬(wàn)噸/年的產(chǎn)品產(chǎn)能，突破公司現(xiàn)有產(chǎn)能瓶頸，為公司進(jìn)一步加大國(guó)產(chǎn)替代速度奠定基礎(chǔ)。

目前，上海新陽(yáng)正在開(kāi)發(fā)集成電路制造用高端光刻膠產(chǎn)品，包括邏輯和模擬芯片制造用的I線光刻膠、KrF光刻膠、ArF干法光刻膠，存儲(chǔ)芯片制造用的KrF厚膜光刻膠，底部抗反射膜（BARC）等配套材料。

市場(chǎng)需求最大的兩種光刻膠

如果說(shuō)光刻膠是半導(dǎo)體行業(yè)的皇冠，那ArF光刻膠就是皇冠上的明珠。

受制于國(guó)內(nèi)光刻膠技術(shù)壁壘高、產(chǎn)業(yè)集中度高，目前我國(guó)高端光刻膠的國(guó)產(chǎn)化率仍然保持較低水平。半導(dǎo)體光刻膠中的ArF和KrF光刻膠，國(guó)產(chǎn)化率僅1％。基本涵蓋了當(dāng)前主流芯片領(lǐng)域，包括大部分?jǐn)?shù)字芯片和幾乎所有的模擬芯片。

其中，ArF濕法光刻膠主要應(yīng)用于先進(jìn)制程中的多重曝光過(guò)程，需求比ArF干法更多。并且，隨著技術(shù)節(jié)點(diǎn)向前推進(jìn)，ArF濕法光刻膠的用量增長(zhǎng)很快。從整體上來(lái)說(shuō)，ArF與KrF基本覆蓋主流芯片制程和應(yīng)用需求，且在單芯片制作過(guò)程中用量相比更多，因而成為了光刻膠市場(chǎng)上需求最大的兩類(lèi)。

國(guó)內(nèi)光刻膠產(chǎn)業(yè)正處于國(guó)產(chǎn)化機(jī)遇期，國(guó)內(nèi)光刻膠企業(yè)——晶瑞電材、彤程集團(tuán)、南大光電、上海新陽(yáng)等都在加快光刻膠項(xiàng)目的研發(fā)建設(shè)，力求早日量產(chǎn)突破“卡脖子”的困境，而跨界布局光刻膠的企業(yè)也日漸增多，哪些本土光刻膠企業(yè)將最終“脫穎而出”，仍需時(shí)間的考驗(yàn)。

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