光刻是利用光學(xué)、化學(xué)、物理方法，將設(shè)計(jì)好的電路圖轉(zhuǎn)移到晶圓等表面，是光電信息產(chǎn)業(yè)鏈中核心環(huán)節(jié)。光刻膠是對(duì)光敏感的混合液體，主要是由樹脂、光引發(fā)劑、溶劑、單體等組成，是光刻工藝中最核心耗材，其性能決定著光刻質(zhì)量。目前，光刻膠生產(chǎn)在工藝技術(shù)、測(cè)試設(shè)備和下游認(rèn)證均存較高壁壘。
市場(chǎng)規(guī)模
光刻膠主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、顯示面板和PCB等領(lǐng)域，其中顯示面板用占比27%，PCB和半導(dǎo)體用占比分別為25%和24%。近年，電子信息產(chǎn)業(yè)更新?lián)Q代速度加快，疊加半導(dǎo)體、顯示面板產(chǎn)業(yè)東移，國內(nèi)光刻膠需求快速提升，我國光刻膠市場(chǎng)規(guī)模從2015年的100億元增至2020年的176億元，年均復(fù)合增速達(dá)12%；據(jù)我們測(cè)算，2022—2025年市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)222、250、281和316億元，成長空間廣闊。
全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模從2010年的56億美元增至2020年的87億美元，年均復(fù)合增速達(dá)5%；據(jù)國海證券測(cè)算，2022-2025年將達(dá)98、103、109和114億美元，穩(wěn)步提升。
據(jù)不完全統(tǒng)計(jì)，目前晶瑞電材等國內(nèi)實(shí)現(xiàn)光刻膠量產(chǎn)的上市公司，2021年光刻膠相關(guān)業(yè)務(wù)營收合計(jì)達(dá)27.4億元，約占國內(nèi)市場(chǎng)規(guī)模的14%，全球市場(chǎng)規(guī)模的5%，國內(nèi)市場(chǎng)和全球市場(chǎng)均存在廣大的發(fā)展空間。
光刻膠屬于技術(shù)和資本密集型行業(yè)，全球供應(yīng)市場(chǎng)高度集中，日本JSR等五家龍頭企業(yè)占據(jù)全球光刻膠市場(chǎng)87%的份額，同時(shí)海外龍頭也已實(shí)現(xiàn)EUV等高端制程量產(chǎn)。
國內(nèi)光刻膠高端領(lǐng)域逐步突破
我國光刻膠行業(yè)發(fā)展起步較晚，生產(chǎn)能力主要集中在PCB光刻膠、TN/STN-LCD光刻膠等中低端產(chǎn)品，其中PCB光刻膠占比達(dá)94%，而TFT-LCD、半導(dǎo)體光刻膠等高端產(chǎn)品仍需大量進(jìn)口。
近年來，我國政府大力扶持半導(dǎo)體與原料產(chǎn)業(yè)發(fā)展，陸續(xù)出臺(tái)了多項(xiàng)政策支持光刻膠行業(yè)發(fā)展，推動(dòng)產(chǎn)業(yè)大力研發(fā)，突破“卡脖子”技術(shù)，早日實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)鏈核心技術(shù)國產(chǎn)化。
先進(jìn)制程半導(dǎo)體光刻膠方面，目前適用于6英寸硅片的g線、i線光刻膠國內(nèi)自給率約為10%，適用于8英寸硅片的KrF光刻膠國內(nèi)自給率不足5%，適用于12寸硅片的ArF光刻膠國內(nèi)基本依靠進(jìn)口，而EUV光刻膠還仍處研發(fā)階段。
而隨著電子信息產(chǎn)業(yè)向中國轉(zhuǎn)移，以及半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈配套需求的提升，未來高端光刻膠實(shí)現(xiàn)進(jìn)口替代是大勢(shì)所趨。盡管我國光刻膠領(lǐng)域與國外巨頭仍存不小差距，但國內(nèi)一批優(yōu)秀的龍頭公司正積極投入研發(fā)，旨在突破高端光刻膠受制于人的局面，使光刻膠國產(chǎn)化由低端走向高端。
EUV膠方面，北京科華已通過02專項(xiàng)驗(yàn)收。ArF膠方面，上海新陽、徐州博康正處于客戶測(cè)試階，南大光電已獲部分客戶認(rèn)證；KrF膠方面，北京科華、上海新陽、徐州博康、晶瑞電材均具備量產(chǎn)能力。
與此同時(shí)，國內(nèi)光刻膠新建項(xiàng)目也持續(xù)設(shè)中。
生產(chǎn)光刻膠的原料主要包括光刻膠樹脂、光引發(fā)劑、溶劑、單體及其它助劑等，其中樹脂和光引發(fā)劑是最關(guān)鍵的組分。隨著光刻技術(shù)的發(fā)展，對(duì)應(yīng)于各曝光波長的光刻膠組分，也隨著光刻技術(shù)的發(fā)展而變化。長期以來，光刻膠專用電子化學(xué)品主要被日本、歐美的專業(yè)公司所壟斷。
光刻膠樹脂方面，日本、美國企業(yè)目前占據(jù)主要市場(chǎng)。國內(nèi)方面，圣泉、彤程新材、強(qiáng)力新材等目前開始逐步布局。
光引發(fā)劑方面，目前市場(chǎng)主要被日本、韓國、德國等國家的企業(yè)占據(jù)，目前國內(nèi)強(qiáng)力新材、久日新材具備光刻膠引發(fā)劑量產(chǎn)能力。
單體方面，微芯新材、徐州博康、萬潤股份、瑞聯(lián)新材具備量產(chǎn)能力。
溶劑方面，光刻膠溶劑制備技術(shù)壁壘相對(duì)較低，常用材料為丙二醇甲醚醋酸酯（PGMEA或PMA），國內(nèi)企業(yè)涉足較多。目前國內(nèi)有5家主要生產(chǎn)廠商，分別為江蘇華倫、江蘇天音化學(xué)、百川股份、怡達(dá)股份、江蘇三木。
目前雖然在總體研發(fā)和生產(chǎn)能力上，國內(nèi)公司還不能完全與BASF等國際競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手全面抗衡，但經(jīng)過多年技術(shù)積累 ，國內(nèi)已形成一定光刻膠用電子化學(xué)品產(chǎn)能，相關(guān)公司市場(chǎng)份額逐步提升，進(jìn)口替代正持續(xù)進(jìn)行。
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